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微弧氧化表面陶瓷处理工艺的发展
2022.06.20

微弧氧化技术的研究经历了几十年的发展,尤其是通信微弧氧化技术的出现,实现了飞跃,向实用化迈进了一大步。然而,由于合金微弧氧化表面的陶瓷化处理刚刚起步,存在许多技术难题。

发展节能电源。微弧氧化工艺在加工过程中单位面积消耗大量能量,限制了被加工工件的面积。

对氧化膜的微观结构和生长的研究不足。微弧氧化膜的微观结构不仅受电解液体系的影响,还受电解液体系的影响。电参数(电压或电流密度、频率和正负电流密度之比)对氧化膜微观结构的影响尚未得到深入系统的研究。通过电气参数的协调和调整,可以优化组织结构。例如,当控制放电火花时,膜可以获得良好的表面粗糙度。

缺乏对电解质成分在氧化膜形成中的作用机理的研究。目前的研究主要集中在氧化膜中氧化物和化学元素含量的分析和膜层特性的研究上,而对氧化物的形成机理和化学元素在成膜过程中的作用研究不足。的电解质体系配方基本上是通过多次实验得到的,电解质配方不能根据膜的性能自由设计。

氧化膜的膜基结合,实验结果表明,钛合金过渡层尺寸略大于铝镁合金微弧氧化膜,基体和过渡层明显分层,氧化膜与基体结合力差。

缺乏大比例形成致密层的机理和技术研究。在氧化膜的三层结构中,只有致密层是主要工作层,这将是微弧氧化工艺的一个重要研究方向。减小疏松层的厚度,增加致密层在薄膜中的比例,可以实现无疏松层的氧化膜。

微弧氧化技术

数据提供:天助网    
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